薛广辉:5G 通讯 PCB 表面处理工艺 研究及应用( 上)
科技的进步一日千里,人们从无线电发明以来,快速拥有了“顺风耳”的能力,可以及时知道千里、万里外发生的事情。随着智能手机的发明与普及,普通民众拥有了“千里眼”的能力,可以随时随地视频通话,身在千里之外依然如身临现场,明察秋毫。智能手机、智能监控、智能交通、智能驾驶、智能家居、智慧城市…… 众多的智能能力基于超强算力及高频通讯。早期高频通讯仅用于军工、航天领域,卫星通讯、微波通讯在世界通讯领域应用广泛、成熟。随着智能终端的发展,高频通讯逐渐走进普通民众生活,5G 通讯便是众人熟知的技术应用典范。信号的频率提升,对 PCB 材料的电气特性提出了更高的要求。当电场跨越介质材料或绝缘材料时,介质材料两侧的正负电荷会相互吸引。相同的电场强度条件下,不同材料具备不同的电通量。材料电通量与真空条件电通量的比值,称为介电常数。介电常数会影响信号的传输延迟、传输速率等重要电气性能。高频信号要求 PCB 板材具备较小的介电常数,业界为此开发了众多高频材料以满足高频通讯 PCB 的需求。信号频率越高,信号传输时越接近线路的表面,业界称谓“趋肤效应”。所以高频信号 PCB表面处理工艺也是影响信号传输的要素之一。
业界常见的 PCB 表面处理工艺有喷锡板(热风整平,简称 HASL,又分为有铅喷锡、无铅喷锡两种)、OSP 板(又称为有机保焊膜、裸铜板、Entek)、化学沉锡板(ISn,又称化锡板)、化学沉银板(I-Ag,又称化银板)、化学镍金板(又称化镍浸金板、沉金板、化金板,简写为ENIG)、化学镍钯金板、选化板(选择性化学镍金板,简写为ENIG+OSP)等。
从电信号传输要求来看,化学沉银板是最优的选择 :银层有较低的电阻率、优秀的传热性能。但银层易受到使用环境的影响、特别是对卤素、硫元素等敏感,易出现变色腐蚀现象。业界使用化学沉银板通常用于微波通讯领域。OSP 板焊接后形成的金属间化合物(IMC)与化学沉银板相同,对高频信号有良好的承载能力,且 OSP 板同样具备平整的表面,适合密间距器件锡膏印刷、元件贴装等 PCBA 制程,且 OSP 工艺成本低,对制造业有利。但OSP 膜有时效限制,且不耐酸、不耐碱、不耐液体(有机溶剂、水等)、不耐温等,不能清洗、不能长期存放,这大大缩短了 OSP 板的焊接有效使用寿命。另一因素是要求所有裸露的焊盘、测试点、通孔、线路等均需上锡保护,避免后期服役过程中 OSP 膜裂解消失后裸露铜材质而腐蚀。所以 OSP 板在汽车电子、医疗产品等领域有广泛应用,但在高频通讯领域应用有限。
喷锡板焊接后形成的金属间化合物(IMC)与沉银板、OSP 板、沉锡板一致,可以满足高频通讯的需求。但喷锡板焊盘表面不平整,无法应用于密间距器件制程,影响fine pitch 元件锡膏印刷制程品质及元件贴装焊接品质,所以喷锡板仅用于大尺寸非密间距器件产品。
化学沉锡板是高频产品 PCB 表面处理的优选工艺之一 :焊盘表面平整,适合拥有密间距器件产品的 PCB。焊接后形成的 IMC 层与化学沉银板相同。化学锡层具备优秀的防护能力,耐腐蚀、耐酸碱。但沉锡板是在铜箔表面直接沉积一层纯锡层,锡与铜直接接触形成锡 - 铜金属间化合物,随着时间的推移,锡 - 铜金属间化合物反应加厚消耗沉锡层,温度越高反应越剧烈。当沉锡层耗尽时,锡铜金属间 IMC 裸露并影响可焊接性,也就是业界同仁所说的焊盘表面合金化。所以化学沉锡板不能长期存放、不能烘烤。化学沉锡工艺是通过沉锡槽内颠倒铜、锡的活性顺序以完成铜置换锡的反应,沉锡槽液具有高腐蚀性,对 PCB 阻焊等侵蚀严重,所以难获得较厚的沉锡层,但这不影响沉锡板成为优秀的高频通讯 PCB 表面处理工艺。PCBA 业者使用沉锡板需要注意控制沉锡板有效存储时效。
前面几种 PCB 表面处理工艺焊接后形成的金属间化合物均为锡 - 铜合金,沉金板焊接后形成的 IMC 为锡 - 镍金属间化合物或锡铜镍金属间化合物。沉金板具备优秀的抗腐蚀能力、满足长期存放的需求、可以烘烤、焊盘表面平整适合密间距器件产品、适合无铅工艺及有铅工艺,同时还兼具键合丝制程需求(Wire bond process)、按压接触导通需求等,还可以满足压接工艺需求。所以沉金板在业界广泛应用。
需要注意的是,沉金板焊接后形成的锡镍 IMC 扎根在镍层,也就是焊盘铜箔与焊点间存在一个阻挡层镍,普通信号沿着铜箔传输并穿过镍层、IMC 层、焊点进入器件,器件信号再反向传输。高频信号传输时,镍层的存在影响信号传输品质—频率及完整性,这对高频信号而言是一种负担,如何消除此负担而兼具沉金板的其它优势,这是电子产品制造产业的一个共同课题。业界智士同仁对此着力颇深,相继推出多种表面处理工艺,如薄镍薄钯金、化学银金等。笔者参与了化学银金工艺的研究验证工作。笔者就此工作做简单总结陈述如下,供业界同仁参考。
化学银金镀层工艺是在 PCB 表面铜箔上化学方式镀一层银,再于银层上镀一层金,焊接后获得锡铜间界面合金层。镀层要求为 Ag :300~500nm 、Au :80~150nm。样板制作完成后做浸锡焊接处理,浸锡锡槽使用 SAC305 焊锡,锡槽温度 270°C, 共九个样品,浸锡实验条件分别为:
1 号板直接包埋切片 ;
2 号板浸入小锡炉内 3 秒 ; 浸锡实验依据 J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
3 号板浸入小锡炉内 4 秒 ; 浸锡实验依据 J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
4 号板浸入小锡炉内 5 秒; 浸锡实验依据 J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
5 号板浸入小锡炉内 8 秒 ; 浸锡实验依据 J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
6号板浸入小锡炉内15秒; 浸锡实验依据J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
7号板浸入小锡炉内20秒; 浸锡实验依据J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
8号板浸入小锡炉内30秒; 浸锡实验依据J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
9号板浸入小锡炉内40秒; 浸锡实验依据J-STD-003C执行,参考 IPC-TM-650 作业方法
试验样品形貌如图 1- 镀银金表面处理样品总图。浸锡实验后镶埋切片并观察 IMC 形貌。以确定化学银 - 金镀层处理对焊接条件的要求。产品镶埋后样品如图 2- 试验样品镶埋制样。
图1:镀银金表面处理样品总图
图2:试验样品镶埋制样
其中镶块样品 1 包含:
#1 板:裸板;
#2 板:焊接 2 秒;
#3 板 :焊接 4 秒
镶块样品 2 包含:
#4 板:焊接 5 秒;
#5 板:焊接 8 秒;
#6 板 : 焊接 15 秒
镶块样品 3 包含:
#7 板:焊接 20 秒;
#8 板:焊接 30 秒;
#9 板 :焊接 40 秒
镶块样品 1,#1 样品分析 :
使用电子扫描显微镜配合 EDX 对 #1 样品分析,并对镀层成分做测量,结果如图 3- 银金镀层裸板分析。
图3:银金镀层裸板分析
其中EDX#1 位置为 PCB 表面金层,测得金含量为 55.3%(wt%),铜含量 5.7%(wt%)其余为碳氧,未见银元素。图 3-1 银金镀层裸板分析之金层成分 ;
其中 EDX#2 位置为 PCB 镀金层与镀银层界面,测得金含量为23%(wt%),铜含量5.1%(wt%),银含量 61.8%(wt%),其余为碳氧。图 3-2 银金镀层裸板分析之金银界面成分 ;
其中 EDX#3 位置为 PCB铜箔本体,测得铜含量 82.5%(wt%),银含量 3.8%(wt%),未测得金元素 , 其余为碳氧。
图 3-3 银金镀层裸板分析之铜箔本体成分 ;实际测量数据如图 3-4 裸板镀层成分测试原始数据。
图3-1:银金镀层裸板分析之金层成分
图3-2:银金镀层裸板分析之金银界面成分
图3-3:银金镀层裸板分析之铜箔本体成分
图3-4:裸板镀层成分测试原始数据
由 SEM 及 EDX 图片及数据可知,PCB 表面处理为铜箔上直接镀银,再镀金,铜箔、镀银层、镀金层明显,镀层内没有其他杂质。镀层厚度测量每组测 5 个点位,取平均值,测得的镀金层平均厚度 135nm ;镀银层平均厚度 427nm,在工艺设置规范内(Ag :300~500nm 、Au :80~150nm)。图 3-5 裸板镀层尺寸测量数据。电镀工艺控制准确,未出现大幅度漂移现象。
图3-5:裸板镀层尺寸测量数据
镶块样品 1,#2 样品分析 :
样品信息 :SAC305 焊锡,小锡炉温度 270℃, 浸入时间 3 秒。焊接后镶埋切片分析。使用电子扫描显微镜配合 EDX 对 #2 样品分析。图 4 #2 样品焊点观察及成分分析。
图4 #2样品焊点观察及成分分析
由图可知,浸锡 3 秒焊接后,焊锡与 PCB 形成了正常的IMC, IMC 形貌为典型的锡 - 铜合金。对图中焊点做成分分析,位置 1 为焊点内锡银合金,银含量 33.1%(wt%),锡含量 58.2%(wt%),图 4-1 #2 样品焊锡内成分分析 ;EDX 位置 2 为焊接后形成的 IMC,典型的锡铜金属间化合物,其中锡含量 33.4%(wt%)、铜含量 45.5%(wt%)。
图4-1 #2样品焊锡内成分分析
图4-2 #2样品3秒钟焊接后IMC成分
图4-3 #2样品焊接后IMC顶部成分
图4-4 #2样品铜箔成分分析
图4-5:EDX测试原始数据
图4-6 #2样品IMC厚度及形貌观察
图 4-2 #2 样品 3 秒钟焊接后 IMC 成分 ;EDX 位置 3 为焊接后 IMC 顶部成分,测得为锡银化合物,其中银含量18.4%(wt%),锡含量 69.4%(wt%),图 4-3 #2 样品焊接后 IMC 顶部成分。
由此成分可知,焊接 3 秒钟,镀金层已经完全扩散进入焊锡内,镀银层较厚且位于金层下面,银层溶解扩散未彻底走远,堆积在焊点 IMC 附近,并伴随着一定量的微空洞 ;EDX 位置 4 为 PCB 本体焊盘铜箔,测得铜含量 86.5%,图 4-4 #2 样品铜箔成分分析。
所有EDX 原始数据如图 4-5 EDX 测试原始数据。使用 SEM 对焊接后 IMC 做测量,测 5 个位置取平均值,IMC 平均厚度 2.29µm。图 4-6 #2 样品 IMC 厚度及形貌观察。
小结 :
-- 锡槽温度 270℃
-- 焊接时间 3 秒种-- IMC 为锡铜间 IMC,金层完全扩散,银扩散后与焊锡形成锡银合金,部分银层扩散未远离
-- IMC 附近有大量的 micro-void, 其机理为化学沉银时银层固有微空洞
-- IMC 厚度 1.5~3.5µm
镶块样品 1,#3 样品分析 :
样品信息 :SAC305 焊锡,小锡炉温度 270℃, 浸入时间 4 秒。焊接后镶埋切片分析。使用电子扫描显微镜配合 EDX 对 #3 样品分析。图 5 #3 样品焊点观察及成分分析。由图可知,浸锡 4 秒焊接后,焊锡与 PCB 形成了正常的IMC,IMC 形貌为典型的锡 - 铜合金。
对图中焊点做成分分析,EDX 位置 1 为焊点内锡银 IMC,银含量 21.2%,锡含量 67.1%,图 5-1 #3 样品焊点内结晶成分 ;EDX 位置 2 为焊点 IMC 顶部成分,测得结果含银 7.6%,含锡78.1%,图 5-2 #3 样品 IMC 顶部成分。
结果显示 IMC 顶部成分含银,说明焊接时银层扩散未远离焊接界面,堆积在 IMC 附近 ;EDX 位置 3 为焊点内大尺寸结晶成分分析,结果显示为锡铜合金,铜含量 35.3%,锡含量 48.5%,图5-3 #3 样品焊点内结晶成分分析。说明焊接时焊点内出现 锡铜合金,为无铅焊接的正常状况 ;EDX 位置 4 为焊点IMC 成分,为典型的锡铜合金,锡含量 46.3%,铜含量39.2%,图 5-4 #3 样品形成的典型锡铜 IMC ;EDX 位置 5是 PCB 本体铜箔成分,测得铜含量 86.1%,图 5-5 #3 样 品 PCB 本体铜箔成分。所有原始测试数据如图 5-6 #3 样 品 EDX 原始数据。 使用 SEM 对焊接后 IMC 做测量,测 5 个位置取平均 值,IMC 平均厚度 2.91µm。图 5-7 #3 样品 IMC 厚度及形 貌观察。
图5 #3样品焊点观察及成分分析
图5-1 #3样品焊点内结晶成分
图5-2 #3样品IMC顶部成分
图5-3 #3样品焊点内结晶成分分析
图5-4 #3样品形成的典型锡铜IMC
图5-5 #3样品PCB本体铜箔成分
图5-6 #3样品EDX原始数据
图5-7 #3样品IMC厚度及形貌观察
小结 :
-- 锡槽温度 270℃
-- 焊接时间 4 秒种
【本文转自《一步步新技术》杂志,作者是杂志技术总顾问。】
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