ZESTRON将在2014 IPC 全国巡回研讨会沈阳站上发表”清洗技术概览”专题演讲

2014-08-15

打印

球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗技术支持及培训方案提供商ZESTRON很荣幸地宣布：ZESTRON中国区高级工艺工程师纪建光先生将在2014年8月22日于沈阳华人国际大酒店举办的IPC全国巡回研讨会沈阳站上发表以清洗技术概览为题的技术演讲。

随着时代的发展，行业越来越关注清工艺，希望通过优化工艺来获得更好的产品可靠性以及更经济节约的成本方案。本次研究将会展示主流清洗工艺的概览，为听众解释不同物理激励方式的原理，更会解释ZESTRON清洗剂中所包含的核心技术：MPC" （微相清洗技术）和FAST" （快效表面活性剂技术）。这些创新型的解决方案专门设计用于彻底去除有机和无机的污染物残留物，如助焊剂、锡膏及SMT胶水残留等。