ZESTRON将在2015 IPC 全国巡回研讨会西安站上发表”清洗工艺监控”专题演讲

2015-05-18

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全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗技术支持及培训方案提供商ZESTRON很荣幸地宣布：ZESTRON中国区资深工艺工程师吴明先生将在2015年5月26日于西安志诚丽柏酒店举办的IPC全国巡回研讨会西安站上发表以清洗工艺监控为题的技术演讲。

随着时间的发展，电子制造业对于产品表现和质量可靠性的要求越来越高，而生产过程中工艺的稳定性是确保产品高可靠性的前提，针对清洗工艺来说，为了确保工艺始终拥有良好表现，在引入清洗工艺过后需要对包括工艺温度、清洗浓度、接触时间在内的诸多参数进行监控，本次演讲将会为您展示如何使用一系列工具对清洗工艺进行有效的监控，进一步确保持续卓越的清洗结果。